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Superconductivity in ultra-thin CoSi2 epitaxial films

Abstract
The first results on the superconducting properties of ultra-thin epitaxial CoSi2 films are reported. The metal films are obtained by solid phase epitaxy under ultra high-vacuum conditions, with thicknesses ranging from 600 Å down to 50 A. These films are stable against temperature cycling from 350 mK up to room temperature and superconducting for thicknesses down to 100 Å. Results showing a reduction of the transition temperature and variations of the critical magnetic field with decreasing film thicknesses are presented. Furthermore, for very low film thicknesses (i.e. 100 A), an intermediate plateau is observed in the resistivity versus temperature curve. The physical origin of these phenomena is briefly discussed.

Résumé
Nous présentons les premiers résultats de supraconductivité obtenus sur des films épitaxiés de CoSi2 ultra-minces. Ces films métalliques, d'épaisseur variant de 600 Å à 50 Å sont obtenus par épitaxie en phase solide sous ultra-vide. Ces films sont stables lors de cycles en température de 350 mK jusqu'à la température ambiante et supraconducteurs pour des épaisseurs supérieures à 100 Å. Nous présentons des résultats montrant une diminution de la température critique ainsi que des variations du champ magnétique critique pour des épaisseurs décroissantes des films métalliques. De plus, nous observons un plateau intermédiaire dans la courbe de résistivité en fonction de la température pour le film de plus faible épaisseur (i.e. 100 Å). L'origine physique de ces phénomènes est brièvement discutée.