Numéro
J. Physique Lett.
Volume 44, Numéro 21, novembre 1983
Page(s) 883 - 887
DOI https://doi.org/10.1051/jphyslet:019830044021088300
J. Physique Lett. 44, 883-887 (1983)
DOI: 10.1051/jphyslet:019830044021088300

Medium range interaction between neutral metal atoms and a metallic surface (Ta/W)

J. Bardon et M. Audiffren

CRMC2-CNRS, Campus de Luminy, case 913, 13288 Marseille Cedex 09, France


Abstract
The anomalous presence of adatoms in the hidden part of a field ion microscope tip after a sideward deposition is interpreted by the existence of a medium range (10-30 A) van der Waals interaction between the tip and the incoming atoms. For the first time, the interaction constant has been measured between transition metals (Ta/W). The obtained value is 18 eV Å3.


Résumé
La présence anormale d'adatomes dans la partie cachée d'une pointe d'émission ionique de champ après un dépôt est interprétée par des interactions de van der Waals à moyenne distance (10-30 Å) entre la pointe et les atomes projetés. Pour la première fois, la constante d'interaction a été mesurée pour des métaux de transition (Ta/W). La valeur obtenue est 18 eV Å3.

PACS
6845B - Sorption equilibrium at solid fluid interfaces.

Key words
adsorbed layers -- field emission ion microscopy -- tantalum -- tungsten -- van der Waals forces -- Ta -- W -- medium range interaction -- neutral metal atoms -- metallic surface -- adatoms -- field ion microscope tip -- van der Waals interaction