Issue
J. Physique Lett.
Volume 45, Number 20, octobre 1984
Page(s) 977 - 981
DOI https://doi.org/10.1051/jphyslet:019840045020097700
J. Physique Lett. 45, 977-981 (1984)
DOI: 10.1051/jphyslet:019840045020097700

Chemically limited versus diffusion limited aggregation

M. Kolb et R. Jullien

Laboratoire de Physique des Solides, Bat. 510, Université Paris-Sud, Centre d'Orsay, 91405 Orsay Cedex, France


Abstract
In realistic growth processes, both kinetic and chemical factors determine the structure of the aggregates. Here, a model is proposed which interpolates between a purely diffusive and a purely chemical situation. There is crossover from a new, chemically limited growth model, with fractal exponents D = 1.55 ± 0.05 (2.00 ± 0.08) in two (three) dimensions, to diffusive cluster aggregation.


Résumé
Dans des processus réalistes de croissance, les facteurs cinétiques et chimiques déterminent la structure des agrégats. Nous proposons un modèle qui tient compte de ces deux facteurs. Nous déterminons l'exposant fractal de l'agrégation chimique D = 1,55 ± 0,05 (D = 2,00 ± 0,08) en deux (trois) dimensions. On étudie le comportement de crossover entre les régimes d'agrégations chimique et diffusive.

PACS
6460Q - Nucleation in phase transitions.
6475 - Solubility, segregation, and mixing.
6630D - Theory of diffusion and ionic conduction in solids.

Key words
bonds chemical -- segregation -- self diffusion in solids -- chemically limited -- diffusion limited -- aggregation -- structure -- fractal exponents -- diffusive cluster aggregation