Numéro |
J. Physique Lett.
Volume 42, Numéro 10, mai 1981
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Page(s) | 211 - 213 | |
DOI | https://doi.org/10.1051/jphyslet:019810042010021100 |
DOI: 10.1051/jphyslet:019810042010021100
XeCl laser pumped by an electron beam and X-ray assisted discharge
B. Forestier, B. Fontaine et T. SolenneInstitute of Fluid Mechanics of Aix-Marseille University, 13003 Marseille, France
Abstract
Long pulse (200 ns) XeCl excimer laser emission (λ = 3 080 Å), has been obtained when Ne/Xe/HCl mixtures are excited by an electron beam and X-rays assisted discharge either at room temperature or at very low temperature. Absorbed discharge energy is several orders of magnitude higher than the absorbed beam energy. Maximum specific laser energy is 3 J/l at room temperature for a 16 cm gain length and an absorbed discharge energy of 150 J/1.
Résumé
Une émission laser de longue durée (200 ns) et de rendement élevé a été obtenue à 3 080 Å à partir de l'excimère XeCl* à la suite de l'excitation de mélanges Ne/Xe/HCl à température ambiante et à très basse température par une décharge en régime d'avalanche assistée par un faisceau d'électrons et de rayons X. L'énergie apportée au milieu actif par la décharge était de plusieurs ordres de grandeur supérieure à celle apportée par le faisceau de préionisation. L'énergie spécifique laser maximale obtenue était de 3 J/1 à température ambiante pour une longueur de gain de 16 cm et une énergie apportée au milieu actif par la décharge égale à 150 J/l.
4255G - Excimer lasers.
4320C - Gas lasers.
Key words
excimer lasers -- xenon compounds -- X ray assisted discharge -- XeCl excimer laser emission -- specific laser energy -- electron beam pumped laser -- long pulse emission