J. Physique Lett. 41, 127-129 (1980)
DOI: 10.1051/jphyslet:01980004105012700

Influence of surface plasma waves on the surface and volume photoemission yields from Al thin films in the photon energy domain 1.5 to 4 eV

G. Hincelin et A. Septier

Laboratoire de Physique du Vide, C.N.A.M., 292, rue Saint-Martin, 75141 Paris Cedex 03, France

Abstract
Excitation by the incident light of surface plasma waves (SPW) may increase dramatically the electron emission from metal surfaces. Respective enhancements of volume and surface photoeffects are quantitatively determined for smooth thin cesiated aluminium films, in excellent agreement with measured values of the photo-yield in the whole photon energy domain 1.5 < ħω < 4 eV.

Résumé
L'excitation d'ondes de plasma de surface (OPS) par la radiation incidente peut renforcer énormément l'émission photoélectrique de surfaces métalliques. Les contributions respectives des effets de volume et de surface ont été déterminées quantitativement en présence d'OPS pour des films minces d'aluminium activés au césium, en excellent accord avec les valeurs expérimentales, dans tout le domaine d'énergie 1,5 < ħω < 4 eV.

PACS
7145G - Exchange, correlation, dielectric and magnetic functions, plasmons.
7320 - Electronic surface states.
7960G - Photoelectron spectra of composite surfaces.

Key words
aluminium -- caesium -- metallic thin films -- photoelectron spectra -- solid state plasma -- surface plasma waves -- electron emission -- surface photoeffects -- photon energy -- Al thin film -- volume photoeffects -- 1.4 to 4.0 eV -- caesiated Al film -- photoyield